습식 분무 장치 (신기술)

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Rix의 G 스무어는 슬러리를 대략 13μm (Sauter 평균 입자 크기)의 액 적으로 바꾸고 초음속 속도, 붕해, 혼합, 분산 및 방울의 입자를 방해합니다 이 분무 기술은 초음속 액적 충돌 분산 방법으로 사용되었습니다 우리는 전통적인 습식 제트 공장과 에어 제트 공장의 장점을 결합한 Ricks의 독특한 원자화 기술로 고객의 다양한 요구를 충족시킵니다

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